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光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用(发明专利)

  • 专利类型:发明专利
  • 商品列表:本发明涉及一种光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用。所述组合物的主要组分及其质量份数为:a组分0.3-5份,b组分2-15份,c组分0.05-5份,d组分2-15份;所述a组分为含氟的羧酸或其盐,所述b组分为烷醇胺类或季胺氢氧化物中的至少一种碱性化合物,所述c组分为含硫防腐蚀剂,所述d组分为极性有机溶剂。本发明的剥离液组合物能很好的剥离光刻胶,而且,对金属布线有良好的防腐蚀效果。
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本发明涉及一种光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用。所述组合物的主要组分及其质量份数为:a组分0.3-5份,b组分2-15份,c组分0.05-5份,d组分2-15份;所述a组分为含氟的羧酸或其盐,所述b组分为烷醇胺类或季胺氢氧化物中的至少一种碱性化合物,所述c组分为含硫防腐蚀剂,所述d组分为极性有机溶剂。本发明的剥离液组合物能很好的剥离光刻胶,而且,对金属布线有良好的防腐蚀效果。

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