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等离子体生成设备(发明专利)

  • 专利类型:发明专利
  • 商品列表:本发明涉及等离子体生成设备。具体而言,提供了一种设备,如电弧减轻装置110,其可包括第一等离子体生成装置136和第二等离子体生成装置138。第二等离子体生成装置可包括一对相对且间隔开的电极144a,144b以及连接在其间的低电压高电流能量源148。通道194可构造成用以在第一等离子体生成装置与第二等离子体生成装置之间引导等离子体,使得第二等离子体生成装置接收由第一等离子体生成装置产生的等离子体。来
  • 价格:面议
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本发明涉及等离子体生成设备。具体而言,提供了一种设备,如电弧减轻装置110,其可包括第一等离子体生成装置136和第二等离子体生成装置138。第二等离子体生成装置可包括一对相对且间隔开的电极144a,144b以及连接在其间的低电压高电流能量源148。通道194可构造成用以在第一等离子体生成装置与第二等离子体生成装置之间引导等离子体,使得第二等离子体生成装置接收由第一等离子体生成装置产生的等离子体。来自于第一等离子体生成装置的等离子体可用来将该一对相对的电极之间的区域的阻抗减少到足以容许由于低电压高电流的能量源而引起在其间形成电弧。

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