本发明公开了一种无掩膜曝光系统和方法。该系统包括：光学引擎阵列；平移装置，用于驱动光学引擎阵列沿着第一方向平移；扫描平台，用于承载基板并驱动基板沿着第二方向移动，该第二方向与该第一方向垂直；运动控制及数据处理系统，用于控制平移装置和扫描平台的运动，并处理曝光图案数据；该光学引擎阵列包括的光学引擎以（M，N）阵列排布，M和N为自然数，且M与N的乘积大于或等于2；该扫描平台还设置有至少一个第二方向位置传感器，用于检测该扫描平台移动时沿该第二方向的位置信息，以同步该光学引擎阵列包括的各光学引擎。本发明实施例的无掩膜曝光系统和方法，能够实现大面积曝光并对准，从而能够提高生产率和曝光质量。
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